钽靶材
钽靶材主要应用于光导纤维，半导体晶片和集成电路的溅射沉积镀膜，是重要的半导体溅射薄膜材料。
多次EBM冶炼提纯有利于去除靶材中的杂质元素，提高靶材的化学纯度、交叉压力加工获得靶材基体各向均匀细小的晶粒结构。
沈阳太普泰克钨钼科技有限公司可以为客户提供高密度、细晶钽靶材：
Description |
Symbol |
Purity |
Density (g/cc) |
Grain Size (micron) |
Dimension (max/mm) |
Tantalum |
Ta |
4N(99.99%) |
16.59 |
<5 |
400*50 |
